现在产品已经发展到arf光刻胶阶段，而国内还在ktfr光刻胶阶段，后续研究一直停滞，相差三代。

这不仅仅是因为资金不够的原因，更大程度是因为电行业与军事密相关，国外技术封锁，很难。

现在电工业发展迅速，而华夏芯片的劣势也越来越明显，就靠着一些企业自己研究发展，展缓慢，所以，政府想要重启光刻胶的研究。

江小溪听到这里

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